美国、荷兰更新出口管制新规，持续看好国产替代主线【华西机械】

美国、荷兰更新出口管制新规，持续看好国产替代主线【华西机械】 事件：9.5/9.6日美国、荷兰相继更新了出口管制新规。 #1、1970i和1980i需向荷兰政府申请许可，好于市场担忧？荷兰政府9月6日发布了关于浸润式DUV半导体设备出口的最新许可要求，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCANNXT:1970i和1980i DUV浸润式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCANNXT:2000i及后续DUV浸润式系统。1）：对于2000i和先前出口管制规定变化不大；2）对于1970i和1980i，早在23年10月，美国单方面开始限制相关出货（含美国零部件），根据新规，1970i和1980i需向荷兰申请出口许可非美国政府，好于市场先前担忧。3）24M1-7累计光刻机进口金额51.27亿美元，同比+79.22%，24M7中国大陆进口荷兰光刻机金额11.42亿美元，同比+82.57%，光刻机目前非国内扩产瓶颈。 #2，美或加码设备制裁，利好美系核心设备环节？9月5日，美国商务部工业和安全局（BIS）在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则（IFR），对量子计算、先进半导体制造、GAAFET等技术的出口管制进行了升级。其中增加2个先进半导体制造设备相关物项（3B001.q和3B903）并修订先进半导体制造设备相关物项的许可要求，主要涉及对刻蚀设备（各向同性、各向异性干法刻蚀）加码了管制、同时加强了扫描电子显微镜（SEM）工具的限制。1）：美对华过去两年围绕先进制程设备进行管制，此前已经形成了详细的管制内容，新规关于半导体设备变化内容不大，但整体趋严比较确定； 2）：我们认为随着美国管制细不断完善，在执行层面将更加严格，对于国产化率较低且美国垄断的量测、离子注入机，以及美国刻蚀、薄膜等优势环节，有望加速国产验证进度。