英伟达A1加速器用HVLP铜箔
韩国铜箔供应商Solus Advanced Materials将为人工智能(AI) 芯片领先 公司英伟达(Nvidia) 提供用于Al加速器的铜箔。 据业内人士周一透露,该公司获得了英伟达的最终批量生产批准。 该公司将向铜包覆层压板(CCL) 制造商斗山电子BG供应其高端超低剖面(HVLP)铜箔。 Solus Advanced Materials的HVL P铜箔预计将用于Nvidia定于今年发布的下一代Al加速器。 HVLP铜箔旨在通过将表面粗糙度降低到 0.6微米(百万分之- -米)来最大限度